一、凈化手套箱簡介
手套箱專為研究材料科學、化學、半導體及相關(guān)行業(yè)所設(shè)計，采用德國BASF除氧材料，美國UOP高效吸水材料，手套箱內(nèi)水、氧成份可長期持續(xù)保持氣體純度在1ppm以下。
二、凈化手套箱用途
在化學反應(yīng)以及試驗樣品的處理中，有些物質(zhì)對氧及水都敏感，在普通自然環(huán)境下無法進行。使用手套箱可使這類物質(zhì)在相對無氧、無水的惰性氣體環(huán)境下反應(yīng)和測試。 廣泛應(yīng)用于：鋰離子電池及材料、半導體、薄膜制備、納米材料、催化劑、超級電容、特種燈、激光焊接、釬焊、鈦合金焊接等。
三、凈化手套箱功能
手/自動控制系統(tǒng)氣壓；
手/自動控制系統(tǒng)的凈化狀態(tài)；
自動控制氣體凈化系統(tǒng)的還原過程；
自動提示、報警功能；
系統(tǒng)控制參數(shù)設(shè)置；
系統(tǒng)參數(shù)記錄；
系統(tǒng)執(zhí)行機構(gòu)工況檢測。
四、凈化手套箱指標
箱體承受壓力：±3000Pa
標準情況下箱體內(nèi)水含量：≤1ppm (注：標準情況為一個大氣壓，20度恒溫)
標準情況下箱體內(nèi)氧含量：≤1ppm (注：標準情況為一個大氣壓，20度恒溫)
泄漏率：≤0.05Vol%/ h（以箱體內(nèi)氧含量的變化值進行檢查）
● 使用氣體：
a)工作氣體：N2、Ar、He等氣體
b)控制氣體：使用中工作氣體（N2、Ar、He等）
c)還原氣體：工作氣體和氫氣（H2）的混合氣。
五、凈化手套箱參數(shù)
凈化手套箱展示
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